商用纯水设备-企业实力雄厚「多图」

正确维护***纯水处理设备的重要性解析

在晶体管、集成电路生产中，纯水主要用于清洗硅片，另有少量用于药液配制，硅片氧化的水汽源，部分设备的冷却水，配制电镀液等。2、可用氢氧化铵和无机酸等两方面调节PH值，必须注意PH值测量一定要保证正确可靠。集成电路生产过程中的80%的工序需要使用高纯水清洗硅片，水质的好坏与集成电路的产品质量及生产成品率关系很大。水中的碱金属(K、Na等)会使绝缘膜耐压不良，***(Au、Ag、Cu等)会使PN结耐压降低，Ⅲ族元素(B、Al、Ga等)会使N型半导体特性恶化，Ⅴ族元素(P、As、Sb等)会使P型半导体特性恶化，水中***高温碳化后的磷(约占灰分的20-50%)会使P型硅片上的局部区域变为N型硅而导致器件性能变坏，水中的颗粒(包括***)如吸附在硅片表面，就会引起电路短路或特性变差。

超纯水设备系统分析与调整

超纯水设备系统的产水率主要依赖主要系统的回收率来保证:www.szbion.cn自清洗过滤器的回收率为99%,UF系统回收率为90%,一级RO系统回收率为75%,二级RO系统回收率为90%。2、玻璃清洗专用超纯水设备的正常运行：在使用设备是要先连接电源，检查管道是否漏水，然后接通电源。但在实际的运行中,受设备状态和工艺用水需求的影响,系统消耗的水量要大于设计水量,回收率没有达到设计的要求。

1、用给水冲洗反渗透系统，同时注意将气体从系统中完全排除。

2、将压力容器及相关管路充满水后，关闭相关阀门，防止气体进入系统。

3、用水配制好浓度为0.5-0.7%的甲醛溶液，调整PH在5-6之间。

4、启动清洗水泵，以45-58m3/h的流速对反渗透进行冲洗。

5、从反渗透浓水排放取样化验，当甲醛含量达到0.5%时，即可停止冲洗水泵运行。

6、关闭反渗透系统所有的进、出口门以保证系统内充满合格的甲醛溶液。

7、反渗透膜元件应保存在温度为0度以上的环境中。

1、每天的工作完毕之后对大型工业纯水设备进行线上清洗处理，将设备内部剩余的水、污染物、渣1子等冲洗干净之后停机。

2、制定大型工业纯水设备的清洗规格表，定期要对设备的过滤网、过滤器、PP滤芯、反渗透膜进行清洗。

3、每天对大型工业纯水设备进行检查，记录设备状态，一旦出现滴漏现象应及时处理。